Mentor Graphics年度设计论坛召开 面对挑战倡导合作共赢

随着工艺节点不断推进，从40nm、28nm到20nm、14nm，以及设计复杂度的不断提升，芯片设计公司、代工厂以及EDA工具提供商面对的挑战越来越多，怎样去协同解决这些挑战带来的问题是产业链所有厂商都需要思考的问题。近期，Mentor Graphics年度设计论坛在上海和北京两地分别举行，Mentor Graphics CEO Walden C.Rhines进行了题为“The Big Squeeze(利润挤压)”的主题演讲，各个分论坛也与在场的工程师们分享了先进工艺、系统验证、3D IC设计等方面的相关技术和解决方案等内容。 亚太区增长迅猛 在与Walden C.Rhines的记者见面会上，他透露了Mentor Graphics今年第二季度的财报状况。他表示今年对于EDA企业来说是丰收的一年，Mentor Graphics的业绩、营收以及利润收益都超过了以往，相较于去年的第二季度，Mentor Graphics今年第二季度的营收同比增长了70%，上半年的营收较去年同期增长了85%，预计今年Mentor Graphics的全球营收将达12亿美元左右。如此迅猛的增长主要得益于客户对于功能验证和物理验证等方面的需求增长，如硬件仿真和硬件加速器等。亚太地区是EDA工具需求增长最快的市场，尤其是中国市场。Walden C.Rhines表示：“过去几年，中国本土的IC设计企业不管在设计数量还是整体营收方面都增长迅猛，对于EDA工具的需求也大大增加。同时，Mentor Graphics也很重视中国市场，在过去几年对于中国的投入也非常大，现在我们获得了这些投入的回报。”Mentor Graphics亚太区总裁Danny补充说：“除了Mentor Graphics在亚太区的投入外，代工厂的加速成长也是推进EDA工具需求增长的原因之一。全球代工厂大部分集中于亚太区，这也是促使亚太区快速增长的一大原因。” 机遇与挑战 不同的先进工艺节点存在不同的技术挑战，如在28 n m节点，功耗是主要问题；在20 n m节点，是二次或多次图形曝光技术的采用以及验证等带来的问题；在14nm节点，采用FinFET技术，其存在缺陷的概率较高，提高良品率是一个问题。Walden C.Rhines表示：“不同工艺节点所存在的问题对于Mentor Graphics来说既是挑战也是机遇。目前，针对这些问题，Mentor Graphics都能够提供相应的解决方案。如针对28nm节点，Mentor Graphics提出的统一功率格式( U P F)标准，可帮助解决低功耗的要求；对于20 nm节点，Mentor Graphics可提供完整的布局及绕线设计工具，以及针对可靠性设计以及ESD等问题的验证工具；对于14nm节点，Mentor Graphics提出的ATPG工具可以帮助客户实现良品率的提升。”此外，随着设计复杂度越来越高，集成的设计门数成倍增长，存在的设计问题也越来越多，对于完整的验证需求也越来越多。Mentor Graphics可以提供完整的物理验证以及功能验证的解决方案，帮助客户面对各个工艺节点所带来的不同挑战。 合作共赢 面对设计复杂度的不断提升，设计时间的不断缩减，怎样快速使产品上市并取得先机是各个企业都需面对的问题。目前，单一的无晶圆IC设计公司或者代工企业单打独斗的时代已经过去，只有寻求共同合作才能取得共赢。WaldenC.Rhines表示：“这样的合作是越来越紧密了。EDA工具提供商也是这个生态系统中的一员，而且起着桥梁的作用。EDA工具提供商与代工厂一起制定设计规则，然后把这些设计规则应用于IC设计公司的设计中，帮助他们最终实现良品率的提升。”Mentor Graphics Calibre Foundry项目主管张淑雯表示：“以往EDA工具提供商总要等到代工厂需要时才会介入，会大大浪费生产时间。目前在很多情况下，从一开始EDA公司和设计公司就会同时介入生产过程，和代工厂一起合作解决在产品生产过程中遇到的问题，使问题尽早解决，提升产品良率，节省成本，并缩短产品上市的时间，最终实现共赢的目的。” 《电子设计技术》网站版权所有，谢绝转载