台积制程 叩关10纳米以下

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔（ASML）昨（24）日宣布，新一代极紫外光（EUV）微影设备已正式量产，并接获台积电订单，预计明年出货，为台积电制程推进至10纳米以下，取得关键的门票。 艾司摩尔指出，因应消费市场对于电子产品多功能、小尺寸、低耗电的要求愈来愈严苛，半导体产业持续追求晶体管制程微缩，台积电取得跨足10纳米以下先进制程最关键的极紫外光（EUV）机台，摆脱半导体摩尔定律可能受到的物理极限限制，成本还有再下降空间，未来将持续用来生产高通、苹果等大客户高阶芯片。 据了解，台积电购买的EUV量产机台，初期仍投入用于12寸晶圆10纳米制程，未来考虑导入在18寸晶圆上。 台积电10纳米制程已与超过十家客户合作进行产品设计，包括手机基频、绘图芯片、服务器、游戏机及可编程逻辑闸阵列（FPGA）等领域，规划明年底试产，预计2016年底可望量产。 半导体业者表示，一套EUV系统要价9,000万欧元，被誉为是“半导体设备中的钻石”，由于造价昂贵，也为进入尖端半导体制程筑起高墙。 据了解，除台积电外，三星、英特尔、IBM也是向艾司摩尔下单EUV机台的“大户”，这些公司将同时取得进入10纳米以下世代制程的门票。这是艾司摩尔投入研发EVU机台的重大突破，该公司指出，未来六年，将是ASML营收跃升的黄金六年。 《电子技术设计》网站版权所有，谢绝转载