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再不光学防抖就晚了!然OIS厂商们仍有四大障碍

2016-10-26 赵娟 阅读:
iPhone7plus发布之前,国产手机最常使用的就是“彩色+黑白”和“成像+景深”两种双摄模式,而现在,“广角+长焦”的新模式得到了大家的关注,其中内置的光学稳像(OIS)马达似乎让硬件厂商看到发力点。

目前,对手机性能的提升,关注点似乎都集中在电池和摄像头两方面。BWAednc

对于前者来说,材料学进展没法一蹴而就,而双摄像头和更高成像质量则成为业内争夺的焦点。BWAednc

iPhone7plus发布之前,国产手机最常使用的就是“彩色+黑白”和“成像+景深”两种双摄模式,而现在,“广角+长焦”的新模式得到了大家的关注,其中内置的光学稳像(OIS)马达成为手机厂商差异化竞争的发力点。BWAednc

上周手机报主办的一场OIS技术研讨会上,一些业内领先公司分享了该领域的发展障碍与进展。BWAednc

障碍一:成本问题

PFCOIL等核心资源还是在日本、霍尔元件等资源缺少议价权、LDS工艺做成的制品价格昂贵——这些都是需要面临的事实。BWAednc

OIS马达成本由于原材料、成本、人力,良率损耗等问题,一直很高。——如果能够让产品的规格和生产良率实现标准化,或许OIS成本问题能得到缓解。BWAednc

另外,零部件可能存在有设计、没有资源的问题,所以价格无法达到量产的目标。“因为资源的问题眼下没有办法解决,所以我们目前能做的,就是跟模组厂定下一个标准规格,以及最终达到的期望效果。”比路电子认为,“如果设计初期可以充分考虑模组厂商的要求,设计时可以规避。”BWAednc

障碍二:OIS检测问题

有多少模块厂商可以进行OIS IQC?若不可以进行检测,到时候有争议如何厘清?——这是摆在制造环节一个重要的难题,不进行检验如何确保行程/电流/倾斜角等在范围内?这些都会造成的影像调试未达到预期效果。BWAednc

若是无法在第一时间厘清规格问题,OIS的市场是无法被广泛的放大,三美达认为。BWAednc

障碍三:双VCM间的磁干扰问题

传统方式的摄头模组抗磁干扰能力非常弱,且两个摄头模组的堆叠必须保持一定距离,才能达到防磁效果。BWAednc

针对双摄马达磁场干扰问题,比路电子认为永磁铁干扰问题比较突出,可以考虑磁石共用的问题。BWAednc

回到设计上的要求,三美达指出,“在设计马达的过程中进行优化磁场的分析,去了解每一个磁场最大的运用,以及通用性如何。完成之后,再进行与客户之间的协商,达到双方都满意的效果。”BWAednc

爱佩仪的光学防抖系统有个专利设计:磁性部件固定在外围,四个独立控制的音圈在中心,从而把其他磁力对中心移动部件的磁性干扰降到最低。通过实验验证,两个模组相互之间的磁力干扰影响非常小,可放置在0.05毫米的距离内。BWAednc

障碍四:更精密的制造工艺

更精密的制造工艺这其中包括双摄像头位置稳定、芯片贴装精度更高、光轴平衡度高,移轴镜头。BWAednc

两个传感器的光轴趋于平行,这对成品率来讲至关重要。两个镜头的轴向安装角度误差必须控制在0.3度以内,距离精度控制在0.05毫米以内,这个非常有难度,即使现在的最先进的AA制程也不能完全解决这个问题,爱佩仪表示。BWAednc

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赵娟
ASPENCORE中国区总分析师
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