恩智浦今年使用三星的28nm全耗尽型绝缘体上硅（FD-SOI）工艺生产多达五种SoC，其中一种的样品的试制已经进行了6个月。三星预计将在五月份公布其FD-SOI路线图，并正在为其开发RF和内部嵌入式MRAM。
恩智浦的一位执行官在一次活动上展示了该产品的第一个样品，这是FD-SOI漫长旅程中的一个关键的里程碑。下一步是为该工艺找到嵌入式非易失性存储器（Embedded Non-Volatile Memory），因为人们预计嵌入式flash存储器将在14nm处达到极限。
Globalfoundries去年宣布了它们的首个FD-SOI流片，并表示现在有70个客户预定。但一个Globalfoundries高管拒绝透露它们的第一款22nm FD-SOI商业芯片将在何时发布，以及在此过程中完成了多少流片。
三星代工市场营销副总裁Ryan Lee表示：“我们的FD-SOI业务现在很小，但它将会成为主流。”
一位芯片设计师表示，他的公司长期以来一直对FD-SOI感兴趣。他的公司在意法半导体制造了一个测试芯片，但选择与三星进行商业设计工作，因为Globalfoundries在Sanjay Jha成为代工厂的CEO之前尚未准备好。
恩智浦的Geoff Lees展示了FD-SOI i.MX芯片的样品。
恩智浦介绍了i.MX品牌下的四个64位ARMv8和一个32位ARMv7嵌入式SoC，其中的三个现在正在使用三星的FD-SOI工艺生产。在接下来的两年中，该系列产品将覆盖25倍的性能范围，比其基于平面工艺的i.MX芯片高五倍，每种设计都针对不同的性能和功率特性进行了优化。
恩智浦微控制器部总经理Geoff Lees表示：“如果没有28nm的FD-SOI，我认为这根本不可能。”
高端汽车SoC将运行多达8个1080逐行显示器，而且没有风扇。Lees表示，它的运行条件足以杀死手机，可靠性提高了三个数量级。
3月份公布的i.MX 7ULP包括独立应用和实时领域。它针对从家庭自动化到可穿戴产品的广泛市场。
长期来看，Lees表示，FD-SOI承诺更好的ADC和更低的功率无线电。例如，他希望单天线802.11n Wi-Fi能够出现在Zigbee和其他802.15.4协议的功率预算中，并有能力将蓝牙低能耗提升到创记录的功率级别，以新的成本开发新的应用。
恩智浦的这一举动是一个冒险的赌注，当时从28nm平面到16nm FinFET的飞跃对于大多数NXP微控制器来说似乎太大了。 四年前，恩智浦正在使用三星的第二代28LPP，并评估其第三代28nmLPA，当时，三星向NXP展示了它们来授权自ST的FD-SOI工艺。
“我们决定进行100%的跳跃……即使工艺评定还有1年时间，我们甚至不了解路线图……我们未进行考察便开始了行动。”Lees说。
恩智浦的评估显示，台积电的28ULP工艺或多晶硅替代的汽车认证可能更加困难和受限。 Lees表示，这些节点同样缺乏FD-SOI的模拟和RF优势。
恩智浦显然没有评估最近公布的选项，如台积电22ULP和英特尔22FFL。
Globalfoundries产品营销高级副总裁Alain Mutricy说：“我们至少有10种掩膜优势，请留意，22nm FD-SOI使用的掩膜不足40种。所以晶圆厂的周期只有一个月，甚至就在二月份，利用我们的衬底偏压方案，你可以得到获得很多优势，类似于下一个FinFET节点，以及更低电压的物联网产品。”
Globalfoundries的PDK 1.2工艺将于6月份推出，它的目标是商业产品。他展示了EDA工具和尚未完成认证的节点IP。他表示：“我们已经准备好了演出。”
Sigma Designs，德国Dream Chip和上海复旦微电子发表了声明，表示将会使用该节点。后续的12nm FD-SOI变体“一直在发展”，并将使用少于50种掩膜和2次曝光技术，Mutricy补充道。
Globalfoundries比较了它和对手的22nm工艺。
Lees讨论了使用FD-SOI的几个障碍，最大的障碍是寻找一种嵌入式存储器来替代后22nm一代的flash存储器。 展望未来，很难说恩智浦会使用FinFET，FD-SOI，以及平面的哪种组合，特别是考虑到高通悬而未决的并购。
他不会对多公司采购FD-SOI的计划提供任何见解。但是他指出，对于多公司采购FD-SOI而言，三星使用其韩国和美国（奥斯汀）晶圆厂是一种选择。
他表示：“我更关心亚洲地震，多公司采购取决于代工厂下一代工艺的比较，现在还为时过早，我们需要等待更多的评估。”
恩智浦期望等待12-18个月内的第二代产品，然后使用FD-SOI的性能通过软件来控制器件中的动态功率。他对EE Times说：“我们不想对用户造成负担，但是我们正在建立多个分布式电路来监控速度。”
GF展示了不包括最新的英特尔和台积电变体的工艺节点路线图。
Lees呼吁业界在电阻式RAM方面取得更多进展，作为嵌入式存储器替代微控制器flash存储器的一种选择。他说：“我们需要一些独特的方式来跨越flash存储器的门槛。MRAM尚且处于‘早期阶段’。”
恩智浦确定了40种不同类型的嵌入式非易失性存储器，包括专有和代工版本，作为两年研究的一部分。他说：“我们感觉到40nm是flash存储器的实际限制，但有一些例外，于是我们便开始寻找。”
Lees表示，他希望看到ReRAM和垂直磁隧道结的多种选择。他说：“嵌入式flash存储器取代EPROM花了十年时间，现在是一个类似的过渡，但是我们无法等待十年——浮栅管flash在28nm到14nm之间的某个位置会耗尽气体。”
另一位芯片设计师表示，他的公司设计自己的专有嵌入式flash存储器，虽然它的性能略低，但它比选择代工更便宜。
（原文发表于EDN姐妹网EEtimes）
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