RHjednc
光刻RHjednc
离子注入RHjednc
微观图长这样: RHjednc
再次光刻+蚀刻RHjednc
撤去保护, 中间那个就是FinRHjednc
门部位的多晶硅/高K介质生长RHjednc
门部位的氧化层生长RHjednc
长成这样RHjednc
源极 漏极制作(光刻+ 离子注入)RHjednc
初层金属/多晶硅贴片RHjednc
蚀刻+成型RHjednc
物理气相积淀长出表面金属层(因为是三维结构, 所有连线要在上部连出)RHjednc
机械打磨(对! 不打磨会导致金属层厚度不一致)RHjednc
成型! RHjednc
连线RHjednc
转载整理自知乎《芯片里面有几千万的晶体管是怎么实现的?》@呆涛 的答复。RHjednc